Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for euv lithography, method for producing reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing semiconductor device

WO2013141268 Art A1 26. September 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013141268
Aktenzeichen: EP13764234
Anmeldetag: 21. März 2013
Veröffentlichung: 26. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F1/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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