Photosensitive resin composition, method for manufacturing processed glass substrate using same, and touch panel and method for manufacturing same

WO2013141286 Art A1 26. September 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013141286
Aktenzeichen: EP13763586
Anmeldetag: 21. März 2013
Veröffentlichung: 26. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/075G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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