Protectant, method for producing compound protected by protectant, resin protected by protectant, photosensitive resin composition containing resin protected by protectant, pattern-forming material, photosensitive film, cured relief pattern, method for producing same, and semiconductor device

WO2013141376 Art A1 26. September 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013141376
Aktenzeichen: EP13764560
Anmeldetag: 22. März 2013
Veröffentlichung: 26. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C08F8/00C07B51/00C07C39/07C07C57/07C08F12/24C08F20/06C08G8/28C08G69/48C08G73/10G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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