Apparatus and method for compensating a defect of a channel of a microlithographic projection exposure system

WO2013143594 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013143594
Aktenzeichen: EP12710961
Anmeldetag: 29. März 2012
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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