A lithography apparatus, a device manufacturing method, a method of manufacturing an attenuator

WO2013143729 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013143729
Aktenzeichen: EP13702236
Anmeldetag: 5. Februar 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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