Methods of providing patterned templates for self-assemblable block copolymers for use in device lithography

WO2013143813 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013143813
Aktenzeichen: EP13708138
Anmeldetag: 6. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von