Wafer processing method, wafer processing device and semiconductor light-emitting element manufacturing method

WO2013145509 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013145509
Aktenzeichen
EP13768506
Anmeldetag
17. Januar 2013
Veröffentlichung
3. Oktober 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065H01L21/027H01L33/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Sharp Kabushiki Kaisha
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.803 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen