Mask conveyance device, mask holding device, mask substrate, substrate processing device, and method for producing device

WO2013145800 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013145800
Aktenzeichen: EP13768223
Anmeldetag: 10. Januar 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/00G03F1/68H01L21/027H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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