Method for manufacturing substrate provided with multilayer reflection film, method for manufacturing reflective mask blank, and method for manufacturing reflective mask

WO2013146488 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013146488
Aktenzeichen: EP13768484
Anmeldetag: 21. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von