Active-light-sensitive or radiation-sensitive composition, and resist film, resist coating mask blank, resist pattern formation method, and photomask employing same

WO2013146812 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013146812
Aktenzeichen: EP13770204
Anmeldetag: 26. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/73C07C309/77C08F12/24G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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