Mask blank substrate, substrate with multilayer reflection film, transparent mask blank, reflecting mask, transparent mask, and reflecting mask and semiconductor fabrication method

WO2013146990 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013146990
Aktenzeichen: EP13767780
Anmeldetag: 28. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C03C17/34C03C17/36C03C19/00G02B5/08G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von