Substrate for mask blank, substrate with multilayer reflective film, transmissive mask blank, reflective mask blank, transmissive mask, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2013146991 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013146991
Aktenzeichen: EP13768926
Anmeldetag: 28. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/22G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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