Strukturbildungsverfahren, Verfahren zur Auswahl einer Heiztemperatur in dem Strukturbildungsverfahren, Extrem Ultraviolettempfindliche Harzzusammensetzung, Lackschicht, Herstellungsverfahren für eine Elektronische Vorrichtung damit und Elektronische Vorrichtung

WO2013147325 Art A1 3. Oktober 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013147325
Aktenzeichen: EP13768037
Anmeldetag: 29. März 2013
Veröffentlichung: 3. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/02G03F7/38G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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