Insulating film, method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

WO2013150927 Art A1 10. Oktober 2013

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013150927
Aktenzeichen: EP13772954
Anmeldetag: 18. März 2013
Veröffentlichung: 10. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318C23C16/42H01L21/28H01L21/285H01L21/316H01L21/336H01L21/768H01L21/8247H01L23/532H01L27/105H01L27/115H01L29/417H01L29/786H01L29/788H01L29/792

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Semiconductor Energy Laboratory Co. Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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