Position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method, optical element

WO2013152878 Art A2 17. Oktober 2013

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013152878
Aktenzeichen: EP13703057
Anmeldetag: 7. Februar 2013
Veröffentlichung: 17. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G02B19/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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