Pellicle, reticle assembly and lithographic apparatus

WO2013152921 Art A1 17. Oktober 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013152921
Aktenzeichen: EP13711613
Anmeldetag: 18. März 2013
Veröffentlichung: 17. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F1/62G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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