Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, electronic device manufacturing method using the same, and electronic device

WO2013154210 Art A1 17. Oktober 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013154210
Aktenzeichen: EP13775711
Anmeldetag: 11. April 2013
Veröffentlichung: 17. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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