Advanced debris mitigation of euv light source
WO2013155004
Art A2
17. Oktober 2013
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013155004
- Aktenzeichen
- EP13775447
- Anmeldetag
- 8. April 2013
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/32H01J3/40H01J1/52
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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