Methods for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers

WO2013156240 Art A1 24. Oktober 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013156240
Aktenzeichen: EP13711870
Anmeldetag: 19. März 2013
Veröffentlichung: 24. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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