Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and method for adjusting an optical system

WO2013156251 Art A1 24. Oktober 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013156251
Aktenzeichen: EP13715912
Anmeldetag: 22. März 2013
Veröffentlichung: 24. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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