Mask for lithographic apparatus and methods of inspection

WO2013156328 Art A2 24. Oktober 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013156328
Aktenzeichen: EP13721602
Anmeldetag: 5. April 2013
Veröffentlichung: 24. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von