Base material for forming conductive pattern and conductive pattern formed using same

WO2013157900 Art A1 24. Oktober 2013

Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013157900
Aktenzeichen: EP13777986
Anmeldetag: 22. April 2013
Veröffentlichung: 24. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H05K1/02G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LG Chem, Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 LG Chem

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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