Composition for forming silicon-containing euv resist lower layer film including additive

WO2013161372 Art A1 31. Oktober 2013

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013161372
Aktenzeichen: EP13781191
Anmeldetag: 22. Februar 2013
Veröffentlichung: 31. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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