Photosensitive resin composition, photosensitive film, permanent mask resist and process for producing permanent mask resist

WO2013161756 Art A1 31. Oktober 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013161756
Aktenzeichen: EP13782590
Anmeldetag: 22. April 2013
Veröffentlichung: 31. Oktober 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08L63/00G03F7/027G03F7/031G03F7/037H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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