Design rule and lithographic process co-optimization

WO2013164187 Art A1 7. November 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013164187
Aktenzeichen: EP13718823
Anmeldetag: 16. April 2013
Veröffentlichung: 7. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G06F17/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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