Novel polyamic acid, photosensitive resin composition, dry film and circuit board
WO2013165211
Art A1
7. November 2013
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013165211
- Aktenzeichen
- EP13785122
- Anmeldetag
- 3. Mai 2013
- Veröffentlichung
- 7. November 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G73/10C08G79/08G03F7/004C08J5/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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