Adjustable chemical vapour deposition process and reactor

WO2013169109 Art A1 14. November 2013

Anmelder: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013169109
Aktenzeichen: EP13724016
Anmeldetag: 8. Mai 2013
Veröffentlichung: 14. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/40H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 TNO (Nederlandse Organisatie voor toegepast-natuurwetenschappelijk onderzoek)

Niederländisches, unabhängiges Forschungsinstitut für angewandte Naturwissenschaften mit Sitz in Den Haag. TNO betreibt anwendungsorientierte Forschung und Entwicklung in Bereichen wie Energie, Mobilität, Gesundheit, Verteidigung und Informationstechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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