Acid diffusion control agent, radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, compound, and method for producing compound

WO2013172239 Art A1 21. November 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013172239
Aktenzeichen: EP13790563
Anmeldetag: 8. Mai 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C227/08C07C229/12C07D211/14C07D215/06C07D295/14C07D307/93C07D307/94C07D317/30C07D327/04C07D493/10C07H9/04G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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