Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing blank and mask

WO2013172248 Art A1 21. November 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013172248
Aktenzeichen: EP13791470
Anmeldetag: 9. Mai 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von