Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming partition wall of image display device, method for manufacturing image display device, and image display device

WO2013172302 Art A1 21. November 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013172302
Aktenzeichen: EP13791577
Anmeldetag: 13. Mai 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G02F1/167G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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