Method for forming negative pattern, method for producing electronic device, electronic device and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition

WO2013172466 Art A1 21. November 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013172466
Aktenzeichen: EP13790595
Anmeldetag: 10. Mai 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027C07C219/06C07C271/16C07F7/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von