Advanced excimer laser annealing for thin films

WO2013172965 Art A1 21. November 2013

Anmelder: The Trustees of Columbia University in the City of New York 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013172965
Aktenzeichen: EP13791565
Anmeldetag: 14. März 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C30B13/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Trustees of Columbia University in the City of New York
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Columbia University

Private Forschungsuniversität in New York City, gegründet 1754, mit umfangreicher Patentaktivität in Medizin, Biotechnologie und Ingenieurwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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