Underpotential deposition of metal monolayers from ionic liquids

WO2013173007 Art A1 21. November 2013

Anmelder: United Technologies Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013173007
Aktenzeichen: EP13791542
Anmeldetag: 11. April 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C28/00C25D11/04C25D11/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: United Technologies Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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