Process sequence for reducing pattern roughness and deformity

WO2013173285 Art A1 21. November 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013173285
Aktenzeichen: EP13791388
Anmeldetag: 14. Mai 2013
Veröffentlichung: 21. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/20G03F7/00G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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