Chemical amplification resist composition, resist film using the same, resist-coated mask blank, method of forming photomask and pattern, and method of manufacturing electronic device and electronic device

WO2013176063 Art A1 28. November 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013176063
Aktenzeichen: EP13794776
Anmeldetag: 10. Mai 2013
Veröffentlichung: 28. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/05C07C309/12C07C309/17C07C309/31C07C381/12C08F212/14C09K3/00G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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