Copper substrate for deposition of graphene

WO2013176680 Art A1 28. November 2013

Anmelder: Empire Technology Development LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013176680
Aktenzeichen: EP12877356
Anmeldetag: 25. Mai 2012
Veröffentlichung: 28. November 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/461

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Empire Technology Development LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Empire Technology Development

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Delaware, das als Patentverwertungsgesellschaft Erfindungen aus verschiedenen Technologiebereichen managt und lizenziert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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