Determining position and curvature information directly from a surface of a patterning device.

WO2013178775 Art A1 5. Dezember 2013

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013178775
Aktenzeichen: EP13726508
Anmeldetag: 31. Mai 2013
Veröffentlichung: 5. Dezember 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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