Method for manufacturing layered film and vacuum-processing apparatus

WO2013179574 Art A1 5. Dezember 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013179574
Aktenzeichen: EP13797527
Anmeldetag: 30. April 2013
Veröffentlichung: 5. Dezember 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/06H01L21/31H01L21/316H01L21/677H01L21/8246H01L27/105H01L43/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von