Pattern inspection device and pattern inspection method

WO2013179956 Art A1 5. Dezember 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013179956
Aktenzeichen: EP13796790
Anmeldetag: 22. Mai 2013
Veröffentlichung: 5. Dezember 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04G01N23/225G03F1/86G06T1/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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