Process to remove ni and nipt metal residues using low temperature aqua regia and sc2 clean
WO2013184632
Art A1
12. Dezember 2013
Anmelder: Intermolecular, Inc., Globalfoundries Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013184632
- Aktenzeichen
- EP13800470
- Anmeldetag
- 4. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 12. Dezember 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Intermolecular, Inc.
Globalfoundries Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇰🇾
GlobalFoundries
GlobalFoundries ist ein Halbleiterhersteller, der als Auftragsfertiger (Foundry) Chips für zahlreiche Kunden produziert; die Gesellschaft ist auf den Cayman Islands registriert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software. Die Anmeldungen von 2000 bis 2018 betreffen unter anderem Kontaktstrukturen und Fertigungsverfahren für Halbleiterbauelemente.
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