Process to remove ni and nipt metal residues using low temperature aqua regia and sc2 clean

WO2013184632 Art A1 12. Dezember 2013

Anmelder: Intermolecular, Inc., Globalfoundries Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013184632
Aktenzeichen
EP13800470
Anmeldetag
4. Juni 2013
Veröffentlichung
12. Dezember 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Intermolecular, Inc.
Globalfoundries Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇰🇾 GlobalFoundries

GlobalFoundries ist ein Halbleiterhersteller, der als Auftragsfertiger (Foundry) Chips für zahlreiche Kunden produziert; die Gesellschaft ist auf den Cayman Islands registriert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Software. Die Anmeldungen von 2000 bis 2018 betreffen unter anderem Kontaktstrukturen und Fertigungsverfahren für Halbleiterbauelemente.

231 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen