Semiconductor substrate, method of manufacturing semiconductor substrate, and method of manufacturing composite substrate

WO2013187076 Art A1 19. Dezember 2013

Anmelder: Sumitomo Chemical Company, Limited, National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013187076
Aktenzeichen: EP13803488
Anmeldetag: 14. Juni 2013
Veröffentlichung: 19. Dezember 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/18C23C16/28C23C16/30H01L21/02H01L21/20H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sumitomo Chemical Company, Limited
National Institute Of Advanced Industrial Science
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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