Sic epitaxial wafer and method for manufacturing same
WO2013191201
Art A1
27. Dezember 2013
Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013191201
- Aktenzeichen
- EP13807032
- Anmeldetag
- 19. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/36C23C16/42C23C16/44C30B25/08C30B25/20H01L21/02H01L21/205
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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