Lithographic apparatus

WO2014001071 Art A2 3. Januar 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014001071
Aktenzeichen: EP13727900
Anmeldetag: 11. Juni 2013
Veröffentlichung: 3. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01J1/02G01J1/42G01J5/10G02B5/18G02B27/44

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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