Method for producing composite structure with metal/metal bonding

WO2014001868 Art A1 3. Januar 2014

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014001868
Aktenzeichen
EP13735406
Anmeldetag
5. Juni 2013
Veröffentlichung
3. Januar 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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