Polymer compound, resin composition for photoresists, and method for producing semiconductor

WO2014002810 Art A1 3. Januar 2014

Anmelder: Daicel Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014002810
Aktenzeichen
EP13810093
Anmeldetag
17. Juni 2013
Veröffentlichung
3. Januar 2014
Rechtsraum
WO
IPC
C08F220/28C08F220/18G03F7/039H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Daicel Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Daicel Corporation

Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.

1.524 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen