Polymer compound, resin composition for photoresists, and method for producing semiconductor
WO2014002810
Art A1
3. Januar 2014
Anmelder: Daicel Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014002810
- Aktenzeichen
- EP13810093
- Anmeldetag
- 17. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 3. Januar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/28C08F220/18G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Daicel Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Daicel Corporation
Daicel Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das Celluloseacetat, Airbag-Gasgeneratoren und Spezialchemikalien herstellt.
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