Composition for pattern formation and pattern forming method

WO2014003023 Art A1 3. Januar 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014003023
Aktenzeichen: EP13809446
Anmeldetag: 25. Juni 2013
Veröffentlichung: 3. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08F297/02B82Y40/00C08L53/00G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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