Method of forming pattern and actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition for use in the method

WO2014003206 Art A1 3. Januar 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014003206
Aktenzeichen: EP13809379
Anmeldetag: 27. Juni 2013
Veröffentlichung: 3. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C07C309/09C07C381/12C08F220/18G03F7/004G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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