Method for manufacturing semiconductor device using organic underlayer film-forming composition for solvent development lithography processes

WO2014007079 Art A1 9. Januar 2014

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014007079
Aktenzeichen: EP13813915
Anmeldetag: 21. Juni 2013
Veröffentlichung: 9. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F7/26G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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