Substrate treatment system, substrate treatment device, data processing method and storage medium
WO2014007081
Art A1
9. Januar 2014
Anmelder: Hitachi Kokusai Electric Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014007081
- Aktenzeichen
- EP13813731
- Anmeldetag
- 21. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 9. Januar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Kokusai Electric Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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