Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Variation einer Optischen Wellenfront bei einer Katoptrischen Linse einer Solchen Vorrichtung

WO2014008994 Art A1 16. Januar 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014008994
Aktenzeichen: EP13733958
Anmeldetag: 4. Juli 2013
Veröffentlichung: 16. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/06G03F7/20G02B5/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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